4亿美元打造！全球最先进光刻机震撼曝光，中国半导体迎来新拐点？
一台价值4亿美元的先进光刻机近期曝光，再次将全球目光聚焦于半导体产业的核心技术。文章从光刻机的战略地位出发，分析ASML在中国的布局、国产替代进程以及未来技术趋势。
EUV光刻
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《芯片战争》：EUV光刻战争背后的全球博弈
本文从《芯片战争》一书出发，探讨了EUV光刻技术、FPGA芯片以及量子计算在全球芯片战争中的重要地位，分析了中美之间在芯片领域的博弈，并展望了未来芯片技术的发展趋势。
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上海光机所EUV光刻技术获重大突破，国产芯片制造迎来曙光！
中国科学院上海光学精密机械研究所在极紫外光刻（EUV）光源技术方面取得重大突破，标志着国产芯片制造迈入新阶段。
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