清华重大突破！理想 EUV 光刻胶材料横空出世 清华大学成功开发出理想的极紫外（EUV）光刻胶材料，这是半导体行业的重大突破。文章详细讲述了研发背后的艰辛过程以及对未来深远影响。 IT热点 2025年07月27日 06:46 0 点赞 0 评论 34 浏览
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